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帖子 ZEMAX軟件技術應用專題:在 OpticStudio 中模擬高階雷射光束
這些模式的場分佈可以寫成 Hermite 多項式。此類模式可以在 OpticStudio 中使用 POP 設置對框中的內置“高斯腰”光束定義進行建模:此模式的主要輸入是 X 和 Y 中束腰以及 X 和 Y 中光束的階數。以上設置演示瞭如何對 X 和 Y 中具有相同腰尺寸的 (0,0) 模式進行建模,對應於單模高斯光束。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術應用專題:在 OpticStudio 中模擬高階雷射光束
帖子 Zemax光學設計技術教程:如何使用Jones Matrix表面
若想在OpticStudio中產生Jones Matrix表面,在序列模式(Sequential ray tracing)下,Jones Matrix可在表面態(Surface Type)單中取; 而在非序列模式(non-Sequential ray tracing)中,則是以物件態(Object Type)的方式呈現。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
Zemax光學設計技術教程:如何使用Jones Matrix表面
帖子 ZEMAX軟件技術應用專題:如何在OpticStudio中設計DOE透鏡或超穎透鏡
繞射光學元件(DOE)和超表面/超穎透鏡在光學系統設計中越來越受歡迎,其應用範圍從手鏡頭到AR / VR耳,從3D傳感到照明。但是,對於包含 DOE 或超穎透鏡的系統進行模擬和設計總是很棘手的。沒有通用的方法可以處理所有情況。設計員需要根據具體情況決定其系統的策略。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術應用專題:如何在OpticStudio中設計DOE透鏡或超穎透鏡
帖子 ZEMAX軟件技術應用專題:利用Kogelnik方法模擬體積全像光柵的繞射效率
體積全像在許多類的光學系統中很受歡迎,例如:抬頭顯示器(HUD)、擴增實境(AR)和虛擬實境(VR)的頭戴顯示器(HMD)。全像能夠將光線繞射到任何所需的角度,其波長和角度的擇性使其能夠創造更輕、更緊密的光學系統。OpticStudio長期以來一直支持理想全像的模擬。然而,為了準確地說明體積全像的特性,除了考慮繞射光線的傳播方向外,還必須考慮繞射效率、材料收縮或折射率變化等因素。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術應用專題:利用Kogelnik方法模擬體積全像光柵的繞射效率
帖子 演講嘉賓揭曉!Ansys 2024 全球仿真大會邀您共赴蘇州參會交流
劉勇進 | 日立能源(中國)有限公司 變壓器技術中心研發工程師演講主題:利用PyAEDT實現干式變壓器電磁仿真自動化戴冀 | 臺達電子企業管理(上海)有限公司 設計課 電子設計資深課長演講主題:電機電磁、結構多目標參數化耦合優化仿真CPS多物理場仿真Teongming Cheah | Ansys 資深技術總監演講主題:歡迎致辭褚正浩
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技術鄰公告 ??? 1年前
演講嘉賓揭曉!Ansys 2024 全球仿真大會邀您共赴蘇州參會交流
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